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您現(xiàn)在的位置: 醫(yī)學(xué)全在線 >> 藥學(xué)理論 >> 中國藥品專利文獻(xiàn) >> 正文:嘧啶衍生物專利檢索:專利號/專利人/發(fā)明人
    

嘧啶衍生物

公開(公告)號 CN1628103A  
公開(公告)日 2005.06.15  
申請(專利)號 CN01819116.9  
申請日期 2001.11.13  
專利名稱 嘧啶衍生物  
主分類號 C07D239/56  
分類號 C07D239/56;C07D239/46;C07D239/52;A61K31/505;A61P25/00;C07D401/04  
分案原申請?zhí)?  
優(yōu)先權(quán) 2000.11.22 EP 00125529.8  
申請(專利權(quán))人 弗·哈夫曼-拉羅切有限公司  
發(fā)明(設(shè)計)人 H·斯塔德勒  
地址 瑞士巴塞爾  
頒證日  
國際申請 PCT/EP2001/013084 2001.11.13  
進(jìn)入國家日期 2003.05.19  
專利代理機(jī)構(gòu) 北京市中咨律師事務(wù)所  
代理人 林柏楠;劉金輝  
國省代碼 瑞士;CH  
主權(quán)項(xiàng) 下式的化合物:其中R1為低級烷基,低級烷基,吡啶基,嘧啶基,苯基,-S-低級烷基,-S(O)2-低級烷基,-N(R)-(CH2)n-N(R)2,-O-(CH2)n-N(R)2,-N(R)2,或下面的環(huán)狀三級胺該基團(tuán)可以包含另外的選自N、O或S的雜原子,且其中該基團(tuán)可通過連接基團(tuán)-O(CH2)n-與嘧啶環(huán)相連接;R2為氫,低級烷基,低級烷氧基,鹵素或三氟甲基;R3/R3’相互獨(dú)立地為氫或低級烷基;R4相互獨(dú)立地為鹵素,三氟甲基或低級烷氧基;R5為氫或低級烷基;R相互獨(dú)立地為氫或低級烷基;X為-C(O)N(R)-或-N(R)C(O)-;Y為-O-,-S-,-SO2-,或-N(R)-;n為1,2,3或4;且m為0,1或2;及其藥學(xué)可接受的酸加成鹽。  
摘要 本發(fā)明涉及通式(1)的化合物,其中R1為低級烷基,低級烷氧基,吡啶基,嘧啶基,苯基,-S-低級烷基,-S(O)2-低級烷基,-N(R)-(CH2)n-N(R)2,-O-(CH2)n-N(R)2,-N(R)2,或環(huán)狀三級胺基團(tuán),該基團(tuán)可以包含另外的選自N、O或S的雜原子,且其中該基團(tuán)可通過連接基團(tuán)-O(CH2)n-與嘧啶環(huán)相連接;R2為氫,低級烷基,低級烷氧基,鹵素或三氟甲基;R3/R3’相互獨(dú)立地為氫或低級烷基;R4相互獨(dú)立地為鹵素,三氟甲基或低級烷氧基;X為-C(O)N(R)-或-N(R)C(O)-;Y為-O-,-S-,-SO2-,或-N(R)-;n為1,2,3或4;且m為0,1或2;及其藥學(xué)可接受的酸加成鹽。本發(fā)明的化合物具有NK1受體親和性,且因此合適于治療與此受體有關(guān)的疾病。  
國際公布 WO2002/042280 英 2002.5.30  
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