| 公開(公告)號 | CN100364994C |
| 公開(公告)日 | 2008.01.30 |
| 申請(專利)號 | CN200410097283.2 |
| 申請日期 | 2004.11.25 |
| 專利名稱 | 培美曲塞二鈉的一種新晶型及其制備方法 |
| 主分類號 | C07D487/04(2006.01)I |
| 分類號 | C07D487/04(2006.01)I;A61K31/519(2006.01)I;A61K9/08(2006.01)I;A61P35/00(2006.01)I;C07D239/00(2006.01)N;C07D209/00(2006.01)N |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權 | |
| 申請(專利權)人 | 重慶醫(yī)藥工業(yè)研究院有限責任公司;上�？寺∩锔呒夹g有限公司 |
| 發(fā)明(設計)人 | 葉文潤;羅 杰;張道林;鄧 杰;周永春 |
| 地址 | 400061重慶市南岸區(qū)涂山路565號 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | |
| 進入國家日期 | |
| 專利代理機構 | |
| 代理人 | |
| 國省代碼 | 重慶;85 |
| 主權項 | 一種具有一定X-射線粉末衍射圖譜的式I所示化合物N-[4-[2-(2-氨基-4，7-二氫-4-氧代-1H-吡咯并[2，3-d]嘧啶-5-基)乙基]苯甲�；鵠-L-谷氨酸二鈉鹽即培美曲塞二鈉的水合物晶型，該圖譜在下列d間距有衍射線：11.57±0.04，9.51±0.04，8.62±0.04，7.87±0.04，6.30±0.04，5.74±0.04，4.96±0.04，4.82±0.04，3.90±0.04，3.74±0.04，3.11±0.04，其中，相對強度最大的衍射線對應于d間距3.90±0.04或3.74±0.04，在環(huán)境 溫度和環(huán)境濕度下使用銅射線源進行測定得到。 |
| 摘要 | 本發(fā)明涉及有機化學領域和藥學領域，提供葉酸拮抗劑N-[4-[2-(2-氨基-4，7-二氫-4-氧代-1H-吡咯并[2，3-d]嘧啶-5-基)乙基]苯甲�；鵠-L-谷氨酸二鈉鹽(培美曲塞二鈉)的一種新水合物晶型及其制備方法。 |
| 國際公布 |
