公開(公告)號
|
CN101018785A
|
公開(公告)日
|
2007.08.15
|
申請(專利)號
|
CN200580030902.9
|
申請日期
|
2005.09.15
|
專利名稱
|
噻唑啉酮2-取代的喹啉
|
主分類號
|
C07D417/06(2006.01)I
|
分類號
|
C07D417/06(2006.01)I;C07D417/14(2006.01)I;A61K31/4709(2006.01)I;A61P35/00(2006.01)I
|
分案原申請?zhí)? |
|
優(yōu)先權(quán)
|
2004.9.17 US 60/610,767
|
申請(專利權(quán))人
|
霍夫曼-拉羅奇有限公司
|
發(fā)明(設(shè)計)人
|
陳 力;陳少清;C·米舒
|
地址
|
瑞士巴塞爾
|
頒證日
|
|
國際申請
|
2005-09-15 PCT/EP2005/009927
|
進(jìn)入國家日期
|
2007.03.14
|
專利代理機(jī)構(gòu)
|
中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
|
代理人
|
柳春琦
|
國省代碼
|
瑞士;CH
|
主權(quán)項(xiàng)
|
式I的化合物: 其中 R1是氫、低級烷基、芳氧基-低級烷基、-C(O)2[CH2CH2O]p-R9、-[CH2CH2O]v-R8或R2-(X)n-; X是低級亞烷基、羥基-低級亞烷基、環(huán)-低級亞烷基、芳基低級亞烷基、羧基-低級亞烷基、酰氨基低級亞烷基、單-或二鹵代-低級亞烷基、氨基-低級亞烷基、單-或二低級烷基氨基-低級亞烷基或亞氨基-低級亞烷基; R2是 是芳基環(huán);含有3至6個碳原子的環(huán)烷基;含有3至5個碳原子和1至2個選自氧、氮和硫的雜原子的4至6元雜環(huán)烷基環(huán);或含有1至2個選自氧、硫和氮的雜原子的5或6元雜芳環(huán);R5、R6和R7獨(dú)立地選自羥基、低級烷基-砜、羥基-低級烷基、氫、低級烷基、鹵素、全氟低級烷基、低級烷氧基、氨基、單-或二低級烷基氨基,或當(dāng)取代基R5、R6和R7中的兩個在環(huán)上的相鄰碳原子上取代時,這兩個取代基可以與它們相鄰的、連接的碳原子一起形成芳基環(huán);3至6元環(huán)烷基環(huán);4至6元雜環(huán)烷基環(huán);或4至6元雜芳環(huán);所述的雜環(huán)烷基環(huán)和所述的雜芳環(huán)含有選自氧、氮或硫的1至2個雜原子; R4是氫、-(O)k[CH2CH2O]y-R10、 或-O-(CH2)mR14; R19是氫; R20是氫、低級烷基或 是芳基環(huán);含有3至6個碳原子的環(huán)烷基;含有選自氧、硫和氮的1至2個雜原子的4至6元雜環(huán)烷基環(huán);或含有選自氧、硫和氮的1至2個雜原子的5至6元雜芳環(huán); R8和R9獨(dú)立地為氫或低級烷基; R10和R11是低級烷基; R14是全氟低級烷基; R17和R18獨(dú)立地為氫、低級烷基或 n和k是0至1的整數(shù); w、y和z是0至3的整數(shù); p是0至6的整數(shù);并且 v和m是1至6的整數(shù); 或者其中R2含有雜芳環(huán)中的氮的化合物的N-氧化物,其中R2含有雜環(huán)烷基環(huán)或雜芳環(huán)中的硫的砜; 或其藥用鹽。
|
摘要
|
本發(fā)明提供式(I)的噻唑啉取代的喹啉衍生物,其中喹啉環(huán)在2位被取代,該衍生物證明具有CDK1抗增殖活性,因此可以用作抗癌劑;還提供含有所述化合物的藥物組合物以及它們的制備方法。
|
國際公布
|
2006-03-23 WO2006/029863 英
|