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一種二氟尼柳緩釋劑及其制備方法

醫(yī)藥數(shù)據(jù)庫中心 藥學(xué)論壇 浙江工業(yè)大學(xué)/倪哲明;李丹;王力耕
公開(公告)號 CN1895258A  
公開(公告)日 2007.01.17  
申請(專利)號 CN200610052155.5  
申請日期 2006.06.27  
專利名稱 一種二氟尼柳緩釋劑及其制備方法  
主分類號 A61K31/603(2006.01)I  
分類號 A61K31/603(2006.01)I;A61K33/30(2006.01)I;A61K33/34(2006.01)I;A61K33/06(2006.01)I;A61P29/00(2006.01)I  
分案原申請?zhí)?  
優(yōu)先權(quán)  
申請(專利權(quán))人 浙江工業(yè)大學(xué)  
發(fā)明(設(shè)計)人 倪哲明;李 丹;王力耕  
地址 310014浙江省杭州市下城區(qū)朝暉六區(qū)  
頒證日  
國際申請  
進入國家日期  
專利代理機構(gòu) 杭州天正專利事務(wù)所有限公司  
代理人 黃美娟;袁木棋  
國省代碼 浙江;33  
主權(quán)項 一種二氟尼柳緩釋劑,其特征在于所述的緩釋劑是以陰離子層狀材料水滑石為主體,二氟尼柳為插層客體的插層水滑石晶體結(jié)構(gòu),化學(xué)組成為: (M2+)1-x(M3+)x(OH)2(Dif)a(Bn-)b·m H2O 其中M2+是Mg2+、Zn2+、Cu2+、Ni2+、Co2+、Mn2+中的一種,M3+是Al3+、Fe3+、Cr3+中的一種,Dif代表二氟尼柳陰離子,Bn-是電荷為n的無機陰離子,a=0.1~1,x=M3+/(M2++M3+),0<x<1,x∶a=1~3∶1,b=0~1且滿足x=a+nb,m和n為正數(shù)。  
摘要 本發(fā)明涉及一種非甾體抗炎藥的緩釋劑及其制備方法,特別涉及一種二氟尼柳緩釋劑及其制備方法,所述的二氟尼柳緩釋劑是以陰離子層狀材料水滑石為主體,二氟尼柳為插層客體的插層水滑石晶體結(jié)構(gòu),化學(xué)組成如化學(xué)式所示,其中M2+是Mg2+、Zn2+、Cu2+、Ni2+、Co2+、Mn2+中的一種,M3+是Al3+、Fe3+、Cr3+中的一種,Dif代表二氟尼柳陰離子,Bn-是電荷為n的無機陰離子,a=0.1~1,x=M3+/(M2++M3+),0<x<1,x∶a=1~3∶1,b=0~1且滿足x=a+nb,m和n為正數(shù)。本發(fā)明所提供的緩釋劑,不僅提高了藥物抗炎、鎮(zhèn)痛作用,還減少藥物的副反應(yīng),具有產(chǎn)業(yè)上的應(yīng)用價值。 (M2+)1-x(M3+)x(OH)2(Dif)a(Bn-)b·m H2O  
國際公布  
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